光化學氧化技術處理印染廢水研究進展 |
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| 【中文關鍵詞】 | 光化學氧化處理工藝 UV/O3法 光助Fenton法 光催化氧化法 |
| 【摘要】 | 介紹了幾種操作簡單、效果較好的光化學氧化處理工藝:UV/O3法、光助Fenton法和光催化氧化法,探討了該領域存在的問題、研究的熱點與方向,并對光化學氧化工藝處理印染廢水的前景進行了展望。 |
| 【部分正文預覽】 |
印染行業是工業廢水排放大戶，印染廠每生產100 米織物，平均產生廢水 3～5 m3，全國印染廢水排放量約 300～400 萬 m3/d。印染廢水的典型特征是有機物濃度高、可生化性差、色度深、成分復雜，廢水中含有染料、漿料、助劑、酸、堿、纖維雜質及無機鹽等，染料中的硝基和胺基化合物及銅、鉻、砷等重金屬元素具有較大的生物毒性，屬難降解有機廢水[2-3]，因而對印染廢水的有效處理一直是工業廢水治理的研究熱點之一。
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