納濾膜的場發射掃描電鏡、能量色散X射線、原子力顯微鏡與傅里葉轉換紅外光譜分析 |
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| 【中文關鍵詞】 | 納濾 場發射掃描電鏡 能量色散X射線分析 原子力顯微鏡 傅里葉轉換紅外光譜 膜污染 |
| 【摘要】 | 利用場發射掃描電鏡、能量色散X射線分析、原子力顯微鏡與傅里葉轉換紅外光譜技術 ,對NF4 5納濾膜的表面形態、孔徑分布進行了分析研究 ,同時考察了大豆乳清液的納濾膜污染特征。 |
| 【部分正文預覽】 | 利用場發射掃描電鏡、能量色散X射線分析、原子力顯微鏡與傅里葉轉換紅外光譜技術 ,對NF4 5納濾膜的表面形態、孔徑分布進行了分析研究 ,同時考察了大豆乳清液的納濾膜污染特征 .研究表明 :NF4 5膜的孔徑范圍小于 0 5nm ,膜孔分布均勻 ,平均表面粗糙度為 9 4nm ,波峰高度是納米級 ;而污染膜面基本表現為無數小葡萄球狀的低聚糖類物質組成的塊狀 ,且污染物層分布很不均勻 ,波動很大 ,平均表面粗糙度為 4 39 7nm ,波峰高度是微米級的 |
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