用電去離子方法去除高純水中硅的研究 |
文件大小：124.54KB格式：rar發布時間：2012-07-01瀏覽次數：次
| 【文獻出處】 | 原創 |
| 【中文關鍵詞】 | 電去離子 硅 高純水 |
| 【摘要】 | 研究了電壓、pH、流量等因素對EDI去除高純水中硅的影響，探討了EDI裝置對高純水中硅的去除機理，并對傳統工藝與EDI的除硅效果進行了對比。實驗結果表明：在pH、流量等因素不變的情況下。電壓的增加有利于EDI對硅的脫除；在電壓、流量等因素不變的情況下，EDI對硅的脫除牢隨著pH的增加先增加，然后有所下降；在電壓、pH等因素不變的情況下．流量的增加不利于EDI對硅的脫除。 |
| 【部分正文預覽】 | 研究了電壓、pH、流量等因素對EDI去除高純水中硅的影響，探討了EDI裝置對高純水中硅的去除機理，并對傳統工藝與EDI的除硅效果進行了對比。實驗結果表明：在pH、流量等因素不變的情況下。電壓的增加有利于EDI對硅的脫除；在電壓、流量等因素不變的情況下，EDI對硅的脫除牢隨著pH的增加先增加，然后有所下降；在電壓、pH等因素不變的情況下．流量的增加不利于EDI對硅的脫除。 |
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