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新型非離子型聚合物對膠體SiO2垢抑制作用的研究

文件大。0.34MB格式:pdf發布時間:2013-08-14瀏覽次數:
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【中文關鍵詞】硅垢  有機膦阻垢劑  非離子型聚合物  
【摘要】工業水處理中,原水中硅含量過高會導致膠體SiO2垢的形成,硅垢一旦形成便難以去除,給工業生產帶來許多隱患。TJ-SIOII是一種優良的硅垢阻垢劑,而傳統有機膦藥劑對膠體SiO2垢沉積基本無抑制作用。
【部分正文預覽】

 

硅是地球上含量最豐富的元素之一,也是水環境 中最常見 的膠體物質[,在 水中硅 的溶解度通 常在 150~180mg·L 之間。高硅含量的原水在運行過程 中常常形成硅垢沉積于設備表面 ,導致設備傳熱效率降低及系統管路堵塞。硅垢一旦形成便很難去除,常采用具有強腐蝕性 的 NH4F·HF清洗形成的硅垢,如操作不當會造成危險。

對 于硅垢阻垢劑 ,前人進行了一定的研 究,研究的硅垢阻垢劑多為陰離子型聚合物 ,如氧化 淀粉、含氮官能團聚合物 [6-9]及含磷聚合物 。然而 國內此方面 的研究 尚少。同濟大學環境科學與工程 學院在原有研究基礎上,開發 出一種新型非離子聚合物 TJ—SIOII,含醚鍵 、肽鍵 和仲胺基等基 團,研究表明該聚合物對硅垢沉積具有 良好的抑制作用。

 

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