一種制備鑲嵌荷電膜的新材料PISIP五嵌段共聚物的合成與表征 |
文件大小：0.22MB格式：pdf發布時間：2011-08-30瀏覽次數：次
| 【中文關鍵詞】 | 五嵌段共聚物 陰離子聚合 鑲嵌荷電膜 |
| 【摘要】 | 從分子設計出發，合成了一種用于制備鑲嵌荷電膜的新材料：聚（４ 乙烯基吡啶—異戊二烯—苯乙烯—異戊二烯—４ 乙烯基吡啶）（ＰＩＳＩＰ）五嵌段共聚物，并用ＩＲ、ＮＭＲ、ＧＰＣ、ＤＳＣ等方法對共聚物結構進行了表征． |
| 【部分正文預覽】 | 從分子設計出發，合成了一種用于制備鑲嵌荷電膜的新材料：聚（４ 乙烯基吡啶—異戊二烯—苯乙烯—異戊二烯—４ 乙烯基吡啶）（ＰＩＳＩＰ）五嵌段共聚物，并用ＩＲ、ＮＭＲ、ＧＰＣ、ＤＳＣ等方法對共聚物結構進行了表征． |
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