一種制備鑲嵌荷電膜的新材料MsISIMs五嵌段共聚物的合成與表征 |
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| 【中文關鍵詞】 | 五嵌段共聚物 陰離子聚合 鑲嵌荷電膜 |
| 【摘要】 | 從分子設計出發，合成了一種用于制備鑲嵌荷電膜的新材料：聚（４－甲基苯乙烯－異戊二烯－苯乙烯－異戊二烯－４－甲基苯乙烯）三元五嵌段共聚物（ＭｓＩＳＩＭｓ），并用ＦＴＩＲ，１Ｈ－ＮＭＲ，ＧＰＣ，ＤＳＣ，ＴＥＭ等對共聚產物進行了表征，證實了ＭｓＩＳＩＭｓ是制備鑲嵌荷電膜的理想膜材料 |
| 【部分正文預覽】 | 從分子設計出發，合成了一種用于制備鑲嵌荷電膜的新材料：聚（４－甲基苯乙烯－異戊二烯－苯乙烯－異戊二烯－４－甲基苯乙烯）三元五嵌段共聚物（ＭｓＩＳＩＭｓ），并用ＦＴＩＲ，１Ｈ－ＮＭＲ，ＧＰＣ，ＤＳＣ，ＴＥＭ等對共聚產物進行了表征，證實了ＭｓＩＳＩＭｓ是制備鑲嵌荷電膜的理想膜材料 |
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