氧分壓對TiO2膜結構與光學性質的影響 |
文件大小：0.25MB格式：pdf發布時間：2011-11-14瀏覽次數：次
| 【中文關鍵詞】 | 反應濺射 TiO2薄膜 氧分壓 折射率 禁帶寬度 |
| 【摘要】 | 報道了用反應濺射法制備TiO2 膜的實驗研究 .詳細研究了膜的沉積、膜結構及其光學性質 ,隨濺射氧分壓的變化 .隨氧分壓由 6× 10 - 2 Pa增加到 9× 10 - 2 Pa時 ,晶體結構由金紅石變到銳鈦礦 ,氧分壓超過 9× 10 - 2 Pa時趨向于無定形結構 . |
| 【部分正文預覽】 | 報道了用反應濺射法制備TiO2 膜的實驗研究 .詳細研究了膜的沉積、膜結構及其光學性質 ,隨濺射氧分壓的變化 .隨氧分壓由 6× 10 - 2 Pa增加到 9× 10 - 2 Pa時 ,晶體結構由金紅石變到銳鈦礦 ,氧分壓超過 9× 10 - 2 Pa時趨向于無定形結構 .與膜結構密切相關的折射率n隨氧分壓的增大由 2 .4 4變到 1.96 ,禁帶寬度Eg 則由大變小 ,然后再增大的變化 （3.4 1→ 3.2 6→3.4 2 ） |
|
|||||||||||||||
|
|
|||||||||||||||
|
|||||||||||||||
|
【打印本頁】 |
|||||||||||||||
