一、純水在電子元器件生產(chǎn)中的作用
　　純水在電子工業(yè)主要是電子元器件生產(chǎn)中的重要作用日益突出，純水水質(zhì)已成為影響電子元器件產(chǎn)品質(zhì)量、生產(chǎn)成品率及生產(chǎn)成本的重要因素之一，水質(zhì)要求也越來(lái)越高。在電子元器件生產(chǎn)中，高純水主要用作清洗用水及用來(lái)配制各種溶液、漿料，不同的電子元器件生產(chǎn)中純水的用途及對(duì)水質(zhì)的要求也不同。

　　在電解電容器生產(chǎn)中，鋁箔及工作件的清洗需用純水，如水中含有氯離子，電容器就會(huì)漏電。在電子管生產(chǎn)中，電子管陰極涂敷碳酸鹽，如其中混入雜質(zhì)，就會(huì)影響電子的發(fā)射，進(jìn)而影響電子管的放大性能及壽命，因此其配液要使用純水。在顯像管和陰極射線(xiàn)管生產(chǎn)中，其熒光屏內(nèi)壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質(zhì)，是鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光粉顆粒并用硅酸鉀粘合而成，其配制需用純水，如純水中含銅在8ppb以上，就會(huì)引起發(fā)光變色；含鐵在50ppb以上就會(huì)使發(fā)光變色、變暗、閃光跳躍；含有機(jī)物膠體、微粒、細(xì)菌等，就會(huì)降低熒光層強(qiáng)度及其與玻殼的粘附力，并會(huì)造成氣泡、條跡、漏光點(diǎn)等廢次品。在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12個(gè)工序中，玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗等5個(gè)工序需使用純水，每生產(chǎn)一個(gè)顯像管需用純水80kg[1]。液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液，如純水中存在著金屬離子、微生物、微粒等雜質(zhì)，就會(huì)使液晶顯示電路發(fā)生故障，影響液晶屏質(zhì)量，導(dǎo)致廢、次品。顯像管、液晶顯示器生產(chǎn)對(duì)純水水質(zhì)的要求見(jiàn)表1。

表1 顯像管、液晶顯示器用純水水質(zhì)

項(xiàng)目單位
電阻率

MΩ·cm

(25t)
細(xì)菌

個(gè)/ml
微粒

個(gè)/ml
TOC

mg/L
Na+

μg/L
K+

μg/L
Cu

μg/L
Fe

μg/L
Zn

μg/L

黑白顯像管

彩色顯像管

液晶顯示器
≥5

≥5

≥5　
≤5

≤1

≤1
≤10(Φ＞0.5μ)

≤10(Φ＞1μ)

≤10(Φ＞1μ)
≤0.5

≤0.5

≤1
≤10

≤10

≤10
≤10

≤10

≤10
≤8

≤10

≤10
≤10

≤10

≤10
≤10

≤10

≤10


　　在晶體管、集成電路生產(chǎn)中，純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設(shè)備的冷卻水，配制電鍍液等。集成電路生產(chǎn)過(guò)程中的80%的工序需要使用高純水清洗硅片，水質(zhì)的好壞與集成電路的產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)成品率關(guān)系很大。水中的堿金屬（K、Na等）會(huì)使絕緣膜耐壓不良，重金屬（Au、Ag、Cu等）會(huì)使PN結(jié)耐壓降低，Ⅲ族元素（B、Al、Ga等）會(huì)使N型半導(dǎo)體特性惡化，Ⅴ族元素（P、As、Sb等）會(huì)使P型半導(dǎo)體特性惡化[2]，水中細(xì)菌高溫碳化后的磷（約占灰分的20-50%）會(huì)使P型硅片上的局部區(qū)域變?yōu)镹型硅而導(dǎo)致器件性能變壞[3]，水中的顆粒（包括細(xì)菌）如吸附在硅片表面，就會(huì)引起電路短路或特性變差。集成電路生產(chǎn)對(duì)純水水質(zhì)的要求見(jiàn)表2。

表2 集成電路（DRAM）對(duì)純水水質(zhì)的要求[4][5][6]

集成電路（DRAM）集成度 16K 64K 256K 1M 4M 16M
相鄰線(xiàn)距（μm） 4 2.2 1.8 1.2 0.8 0.5
微粒 直徑（μm） 0.4 0.2 0.2 0.1 0.08 0.05
個(gè)數(shù)（PCS/ml） ＜100 ＜100 ＜20 ＜20 ＜10 ＜10
細(xì)菌（CFU/100ML） ＜100 ＜50 ＜10 ＜5 ＜1 ＜0.5
電阻率（μs/cm，25℃） ＞16 ＞17 ＞17.5 ＞18 ＞18 ＞18.2
TOC(ppb) ＜1000 ＜500 ＜100 ＜50 ＜30 ＜10
DO(ppb) ＜500 ＜200 ＜100 ＜80 ＜50 ＜10
Na+(ppb) ＜1 ＜1 ＜0.8 ＜0.5 ＜0.1 ＜0.1

　　二、膜技術(shù)在純水制造中的應(yīng)用

　　純水制造中應(yīng)用的膜技術(shù)主要有電滲析（ED）、反滲透（RO）、納濾（NF）、超濾（UF）、微濾（MF），其工作原理、作用等見(jiàn)表3。

表3 純水制造中常用的膜技術(shù)

膜組件名稱(chēng)
ED
RO
NF
UF
MF

微孔孔徑
5-50埃
15-85埃
50-1000埃（1μm）
0.03-100μm

工作原理
離子選擇透過(guò)性
1.優(yōu)先吸附-毛細(xì)管理論

2.氫鏈理論

3.擴(kuò)散理論
同左
濾膜篩濾作用
同左

作用
去除無(wú)機(jī)鹽離子
去除無(wú)機(jī)鹽離子，以及有機(jī)物、微生物、膠體、熱源、病毒等
去除二價(jià)、三價(jià)離子，M＞100的有機(jī)物，以及微生物、膠體、熱源、病毒等
去除懸濁物、膠體以及M＞6000的有機(jī)物
去除懸濁物

組件形式
膜堆式
大多為卷式，少量為中空纖維
同左
大多為中空纖維，少量為卷式
摺迭濾筒式

工作壓力（Mpa）
0.03-0.3
1-4
0.5-1.5
0.1-0.5
0.05-0.5

水回收率（%）
50-80
50-75
50-85
90-95
100

使用壽命（年）
3-8
3-5
3-5
3-5
3-6個(gè)月

水站位置
除鹽工序
除鹽工序
1.除鹽工序

2.RO前的軟化
大多為純水站終端精處理，少數(shù)為RO前的預(yù)處理
1.RO、NF、UF前的保安過(guò)濾(3-10μm)

2.離子交換后濾除樹(shù)脂碎片(1μm)

3.UV后濾除細(xì)菌死體(0.2或 0.45μm)

4.純水站終端過(guò)濾(0.03-0.45μm)



　　與傳統(tǒng)的水處理技術(shù)相比，膜技術(shù)具有工藝簡(jiǎn)單、操作方便、易于自動(dòng)控制、能耗小、無(wú)污染、去除雜質(zhì)效率高、運(yùn)行成本低等優(yōu)點(diǎn)，特別是幾種膜技術(shù)的配合使用，再輔之以其他水處理工藝，如石英砂過(guò)濾、活性炭吸附、脫氣、離子交換、UV殺菌等，為去除水中的各種雜質(zhì)，滿(mǎn)足日益發(fā)展的電子工業(yè)對(duì)高純水的需要，提供了有效而可靠的手段，而且也只有應(yīng)用了多種膜技術(shù)，才能生產(chǎn)出合格、穩(wěn)定的高純水，才能生產(chǎn)出大規(guī)模、超大規(guī)模、甚大規(guī)模集成電路（LSI、VLSI、ULSI），從而使計(jì)算機(jī)、雷達(dá)、通訊、自動(dòng)控制等現(xiàn)代電子工業(yè)的發(fā)展和應(yīng)用得以實(shí)現(xiàn)。值得一提的是：當(dāng)原水的含鹽量大于400mg/L時(shí)，純水制造的除鹽工序采用RO-離子交換工藝后，比早先單用離子交換可節(jié)約酸、堿90%左右，使離子交換柱的周期產(chǎn)水量提高10倍左右[7]，事實(shí)證明，可以降低純水制造的運(yùn)行費(fèi)用和制水成本，可以減少工人的勞動(dòng)強(qiáng)度，可以減少對(duì)環(huán)境的污染，并可使純水水質(zhì)得到提高并長(zhǎng)期穩(wěn)定。據(jù)統(tǒng)計(jì)，在我國(guó)電子工業(yè)引進(jìn)的純水制造系統(tǒng)中，有RO的約占系統(tǒng)總數(shù)的90%，有UF的約占20%，有MF的幾乎為100%[8]，而ED在我國(guó)國(guó)產(chǎn)的純水系統(tǒng)特別是早期投產(chǎn)的純水系統(tǒng)，以及為數(shù)眾多的對(duì)純水水質(zhì)要求不高的一般電子元器件（如電阻、電容、黑白顯像管、電子管等）制造廠(chǎng)的純水系統(tǒng)中占有相當(dāng)?shù)谋壤��?br />
　　三、微電子工廠(chǎng)純水站使用膜技術(shù)實(shí)況

　　現(xiàn)以某微電子工廠(chǎng)中的某一純水站使用膜技術(shù)的實(shí)況，說(shuō)明膜技術(shù)在電子工業(yè)純水制造中的應(yīng)用。其純水制造系統(tǒng)工藝流程見(jiàn)圖1。

　　1.前級(jí)UF

　　前級(jí)UF是用于去除水中的懸濁物、膠體及有機(jī)物，降低水的SDI值，確保RO的安全運(yùn)行。前級(jí)UF有5組，每組45根組件，共225根組件，進(jìn)水280m3/h，透過(guò)水250 m3/h，濃縮水排放，回收率約90%。UF組件為美國(guó)Romicon公司生產(chǎn)，型號(hào)HF-BZ-20-PM80，組件直徑5in，長(zhǎng)43in，內(nèi)壓式中空纖維膜，纖維直徑20mil（0.51mm），共有2940根纖維，膜面積132ft2，膜材料為PS（聚砜），截留分子量8萬(wàn)。UF前采用5μm保安過(guò)濾器。

　　2.一級(jí)RO

　　水中加入還原劑Na2SO3（加藥量為水中余氯值的1.8倍）以防止余氯氧化腐蝕RO膜，加入防垢劑（NaPO3）6（加藥量為5ppm）以防止CaCO3、CaSO4等在RO膜上結(jié)垢，再經(jīng)5μm 保安過(guò)濾器后由高壓泵打進(jìn)一級(jí)RO。一級(jí)RO有4組，均為二段。其中三組為每組8根膜容器，呈（5+3）排列，第4組為11根膜容器，呈（8+3）排列，膜容器由FRP（玻璃鋼）制成，每根內(nèi)裝6個(gè)RO元件，總共為210個(gè)RO元件，進(jìn)水250m3/h，透過(guò)水188m3/h，濃縮水排放，回收率為75%，脫鹽率＞90%（初始脫鹽率＞99%），操作壓力1.55Mpa。RO元件為美國(guó)HYDRANAUTICS(海德能)公司生產(chǎn)，型號(hào)CPA3。元件直徑8in，長(zhǎng)40in，卷式膜，膜面積400ft2，膜材料為芳香聚酰胺復(fù)合膜，元件脫鹽率≥99.5%。

　　3.二級(jí)RO

　　一級(jí)RO水箱出水中一部分進(jìn)入A系統(tǒng)，先加NaOH（CP級(jí)）調(diào)節(jié)pH為8.2-8.6，使水中CO2生成HCO3-，被二級(jí)RO除去，以減輕混床離子交換的負(fù)擔(dān)，采用二級(jí)RO可以使混床再生周期延長(zhǎng)一倍，減少再生酸堿耗量，并可進(jìn)一步去除TOC和膠體物質(zhì)。二級(jí)RO前采用3μm保安過(guò)濾器，二級(jí)RO為一組三段，共10根膜容器，按（6+3+1）排列，每根容器內(nèi)裝6只RO元件，共60只RO元件，進(jìn)水70m3/h，出水62m3/h，濃水排至超濾水箱，回收率為90%，脫鹽率＞70%(初始脫鹽率＞80%)，RO元件的生產(chǎn)廠(chǎng)、型號(hào)與一級(jí)RO相同。

　　4.后級(jí)UF

　　后級(jí)UF是用于去除水中的微粒、微生物、膠體、有機(jī)物等的終端過(guò)濾設(shè)備。

　　A系統(tǒng)后級(jí)UF為3組，每組18支，共54支組件，進(jìn)水92 m3/h，出水90 m3/h，濃水排至一級(jí)RO水箱，回收率約98%。UF組件為美國(guó)Romicon公司生產(chǎn)，型號(hào)HF-132-20-PM10，組件直徑5in，長(zhǎng)43in，內(nèi)壓式中空纖維膜，纖維直徑20mil(0.51mm)，共有2940根纖維，膜面積132ft2，膜材料為PS（聚砜），截留分子量1萬(wàn)。

　　B系統(tǒng)后級(jí)UF為8組，每組9支，共72支組件，進(jìn)水168 m3/h，出水164 m3/h，回收率約98%，UF組件制造廠(chǎng)及型號(hào)與A系統(tǒng)后級(jí)UF相同。

　　C系統(tǒng)后級(jí)UF有3支組件，進(jìn)水4 m3/h，出水3.9 m3/h，回收率約98%，UF元件為美國(guó)HYDRANAUTICS公司生產(chǎn)，型號(hào)4040-FTV-2120，組件直徑3.94in，長(zhǎng)40in，卷式膜，膜面積55ft2，膜材料為聚烯烴，截留分子量5萬(wàn)。

　　5.微濾

　　本系統(tǒng)的微濾可分為三類(lèi)，第一類(lèi)為前級(jí)UF、RO前的保安過(guò)濾器，用于去除水中的懸濁物微粒，降低水的SDI值，濾芯為PP（聚丙烯）膜摺迭式濾芯，孔徑為5μm或3μm。第二類(lèi)在離子交換后，用于濾除離子交換樹(shù)脂碎片，濾芯為PP膜摺迭式濾芯，孔徑為1μm。第三類(lèi)在UV殺菌器后，用于濾除微生物尸體，濾芯為N-6（尼龍6）膜摺迭式濾芯，孔徑為0.45μm或0.2μm。以上濾芯均為核工業(yè)部第八研究所生產(chǎn)。

　　除上述水站外，該廠(chǎng)還有另幾套高純水制造系統(tǒng)，RO除使用復(fù)合膜元件外，還有使用CA醋酸纖維素膜元件。